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一、半導(dǎo)體廢水簡(jiǎn)介 隨著電子產(chǎn)品的應(yīng)用領(lǐng)域在不斷的擴(kuò)大，半導(dǎo)體涉及的行業(yè)也越來越廣泛，半導(dǎo)體工業(yè)不僅對(duì)于純水的要求高，在產(chǎn)品制作的過程中將會(huì)產(chǎn)生大量的工業(yè)污水，因生產(chǎn)產(chǎn)品的原材料不同，所......
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一、半導(dǎo)體廢水簡(jiǎn)介
隨著電子產(chǎn)品的應(yīng)用領(lǐng)域在不斷的擴(kuò)大，半導(dǎo)體涉及的行業(yè)也越來越廣泛，半導(dǎo)體工業(yè)不僅對(duì)于純水的要求高，在產(chǎn)品制作的過程中將會(huì)產(chǎn)生大量的工業(yè)污水，因生產(chǎn)產(chǎn)品的原材料不同，所以產(chǎn)生的廢水的廢水性質(zhì)也不同。
二、廢水處理難點(diǎn)
1、半導(dǎo)體廢水處理污染物種類多，成分復(fù)雜；
2、含有多種重金屬、氟、硅以及有機(jī)廢水等；
3、含有高濃度的極細(xì)懸浮顆粒；
4、工業(yè)的污水排放量大；
5、廢水濃度低，水質(zhì)變化大；
6、廢水中含金屬離子種類較多，需分開收集進(jìn)行處理；
三、工藝流程
含氟廢水：半導(dǎo)體含氰清洗水的處理一般采用兩級(jí)堿性氧化法處理工藝，半導(dǎo)體廢水處理設(shè)備設(shè)有機(jī)械攪拌系統(tǒng)、PH控制系統(tǒng)、ORP控制系統(tǒng)以及加藥(酸、堿、氧化劑)系統(tǒng)，將廢水pH值調(diào)節(jié)在10.5-11之間，ORP值300- -4oo mv，進(jìn)行一級(jí)氧化破氰，反應(yīng)時(shí)間為15 ~ 20min。
當(dāng)進(jìn)行二級(jí)氧化破氰時(shí)，廢水的pH值調(diào)節(jié)在pH在10.5-11之間，ORP值300- -4oo mv,反應(yīng)時(shí)間15 ~ 20min,將CN-氧化就為CN0-。
有機(jī)廢水一般采用經(jīng)濟(jì)高效的生化法，如單獨(dú)的好氧法或與缺氧法、厭氧法組合工藝，對(duì)于廢水中COD、氨氮、總氮等常規(guī)污染物去除效果非?？捎^。.
金屬離子廢水則需針對(duì)不同廢水不同種類進(jìn)行選擇，常用的有化學(xué)沉淀法、吸附法、離子交換法等。
四、宏森環(huán)保半導(dǎo)體廢水處理設(shè)備優(yōu)勢(shì)：
1、占地面積小，整體造型美觀;
2、操作方便，運(yùn)營(yíng)成本低;
3、免費(fèi)提供1對(duì)1定制方案;
4、自主研發(fā)技術(shù)，30年行業(yè)沉淀，確保污水穩(wěn)定達(dá)標(biāo)排放;
5、自主研發(fā)系統(tǒng)，投資性價(jià)比高;
6、清污分流，分類分級(jí)處理;
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